多片行星式MOCVD爐內砷化鎵沈積均勻度的研究Deposited Uniformity of GaAs in a Multi-Wafer Planetary Type MOCVD Reactor

in National workshop (full text oral presentation), 國內研討會(全文口頭發表)
標題多片行星式MOCVD爐內砷化鎵沈積均勻度的研究Deposited Uniformity of GaAs in a Multi-Wafer Planetary Type MOCVD Reactor
出版類型國內研討會(全文口頭發表)
出版年度2003
AuthorsTing Lung Chiang, 姜庭隆
會議名稱中國機械工程師學會
出版日期Dec 1 2003 12:0
其他編號0000
中文摘要

本文以數值方法分析影響多片行星式金屬有機氣相沈積爐內砷化鎵磊晶沈積速率的主要因素,
進而設法改善晶圓磊晶薄膜的均勻度。

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