Deposition rate and ftir of nanocrystalline silicon at room temperature by using high density plasma chemical vapor deposition

in International Symposium (oral presentation paper), 國際研討會(全文口頭發表)
標題Deposition rate and ftir of nanocrystalline silicon at room temperature by using high density plasma chemical vapor deposition
出版類型國際研討會(全文口頭發表)
出版年度2008
AuthorsRu-Yuan Yang, 楊茹媛, & T. - I. C.
其他編號0000
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