沈積厚度對直流反應濺鍍法製備氮化鋁薄膜之C軸取向與電性分析

in National workshop (full text oral presentation), 國內研討會(全文口頭發表)
標題沈積厚度對直流反應濺鍍法製備氮化鋁薄膜之C軸取向與電性分析
出版類型國內研討會(全文口頭發表)
出版年度2009
AuthorsCHIN-MIN HSIUNG, 熊京民, 陳威宇, Ru-Yuan Yang 楊茹媛, 廖惇帆, Min Hang Weng 翁敏航, & Shoou-Jinn Chang 張守進
會議名稱中國材料科學學會年會
其他編號0000
校址:912 屏東縣內埔鄉學府路1號 總機:886-8-7703202 傳真:886-8-7740165 系統開發統維護單位:國立屏東科技大學 電算中心 版權所有