雙靶射頻磁控濺鍍透明導電AZO/Al/AZO多層膜結構的特性研究

in National workshop (full text oral presentation), 國內研討會(全文口頭發表)
標題雙靶射頻磁控濺鍍透明導電AZO/Al/AZO多層膜結構的特性研究
出版類型國內研討會(全文口頭發表)
出版年度2010
AuthorsCHIN-MIN HSIUNG, 熊京民, CHIN-MIN HSIUNG 熊京民, Ru-Yuan Yang 楊茹媛, & Ru-Yuan Yang 楊茹媛
會議名稱2010奈米技術與材料研討會
出版日期Dec 17 2010 12:0
會議地點彰化
其他編號0000
中文摘要

本文介紹採用雙靶射頻磁控濺射透明導電AZO(鋁摻雜氧化鋅)/Al(鋁)/AZO(鋁摻雜氧化鋅)多層結構。實驗濺射靶材為雙金屬靶材 鋅(Zn)和鋁(Al)。探討光學和電學特性的 AZO/Al/AZO 多層結構。研究氧化鋅影響濺射功率和退火溫度對光學和電學性能進行分析。研究結果 AZO/Al/AZO 多層結構顯示出電阻率為6 × 10-2 Ω-cm,遷移率為 13 cm2/V-s和平均透光率為 30%。該研究 AZO/Al/AZO 多層結構的透明導電元件適合作為行動平面式觸控面板應用。

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